О чём рассказывается в презентации:
Презентация посвящена сравнительному анализу методов элементного состава радиоэлектронной аппаратуры (РЭА). В ней рассматриваются ключевые методы, такие как ICP-MS и XRF, которые обеспечивают высокую чувствительность и неразрушающий контроль образцов. Также акцентируется внимание на важности элементного анализа для определения надежности материалов и выявления дефектов, что критично для долговечности РЭА.
Оглавление
Сравнительный анализ методов элементного состава РЭА
Элементный анализ определяет надежность материалов РЭА
Методы делятся на оптические, рентгеновские и активационные
AAS измеряет поглощение света свободными атомами
ICP-OES анализирует эмиссию из плазмы 6000–10000 K
ICP-MS разделяет ионы по отношению m/z
XRF определяет состав по флуоресцентным рентгеновским спектрам
OES-Spark возбуждает плазму искровым разрядом
NAA использует нейтронную активацию для прецизионного анализа
Выбор метода зависит от типа образца и LOD
ICP-MS превосходит по пределам обнаружения: sub-ppt–ppb
XRF и OES-Spark не требуют разрушения образца РЭА
AAS дешевле ICP-MS в эксплуатации
XRF оптимален для экспресс-анализа плат РЭА
ICP-MS лидирует в анализе следов для полупроводников РЭА
Для РЭА комбинировать XRF с ICP для полного анализа
Выбор метода определяет успех
Благодарим за внимание!
