О чём рассказывается в презентации:
Презентация посвящена металлоорганическому химическому осаждению из газовой фазы (MOCVD) с использованием TDMAT, который является ключевым прекурсором для синтеза тонких пленок нитрида титана. В ней рассматриваются принципы формирования пленок, влияние условий осаждения на их свойства и важность TiN в микроэлектронике. Также обсуждаются перспективы использования новых прекурсоров, способных улучшить стабильность и качество пленок.
