Условие:
Концентрации атомов донорной и акцепторной примесей в областях полупроводника, образующих резкий p-n-переход, равны Nд=1017 см-3, NA=1015 см-3. Площадь перехода равна S, T=300 K.
Диффузионная длина электронов Ln=0.045см, диффузионная длина дырок Lp=0.03см, площадь перехода S=0,001 см2.
Найти Обратный тепловой ток перехода I0, барьерную емкость Сбар и дифференциальное сопротивление перехода rpn в равновесном состоянии (u=0, i=0).
Материал полупроводника-Si.

,