Осуществляется процесс полностью анизотропного травления пленки. При этом маска травится изотропно. Однородность скорости травления пленки и маски составляет 10 %, однородность пленки по толщине составляет 5 %. Заданная степень перетравливания 20 %.

1. Дано

Перечислим исходные данные, используя общепринятые обозначения в технологии травления:

• Ширина формируемой дорожки в пленке (конечная ширина элемента): $W_f = 1$ мкм.
• Толщина пленки: $T = 0.5$ мкм.
• Заданная степень перетравливания (Underetch): $U = 20\% = 0.20$.
• Коэффициент селективности травления (отношение скорости травления маски к скорости травления пленки): $S = 20$.
• Однородность скорости травления пленки и маски (допустим, это максимальное отклонение): $\Delta V = 10\% = 0.10$.
• Однородность пленки по толщине (допустим, это максимальное отклонение): $\Delta T = 5\% = 0.05$...