Осуществляется процесс сухого травления тонкой пленки через маску с заданным соотношением горизонтальной и вертикальной скоростей травления. Травление маски отсутствует. Определить минимальный размер элемента маски для формирования в пленке промежутка

Добавлена: 15.04.2026
Обновлена: 15.04.2026
Предмет: Технология продовольственных продуктов и товаров
Автор: Кэмп

#Технология производств жиров и масел
#Нанобиотехнологии в пищевой индустрии

Условие:

Осуществляется процесс сухого травления тонкой пленки через маску с заданным соотношением горизонтальной и вертикальной скоростей травления. Травление маски отсутствует. Определить минимальный размер элемента маски для формирования в пленке промежутка заданного размера. толщина пленки 2 мкм, травление полностью анизотропное, промежуток в пленке 100 нм.

Решение:

1. Дано

Толщина пленки ( $H$ ): $H = 2 \text{ мкм} = 2000 \text{ нм}$ .
Ширина промежутка в пленке ( $W$ ): $W = 100 \text{ нм}$ .
Травление маски отсутствует.
Травление полностью анизотропное. (Это означает, что горизонтальная скорость травления в плоскости пленки равна нулю, $V_h = 0$ , пока не затронута боковая стенка, но в контексте данной задачи, где задано соотношение, нам нужно использовать это соотношение).

В задачах на анизотропное травление обычно задается соотношение между вертикальной скоростью травления ( $V_v$ ) и горизонтальной скоростью травления ( $V_h$ ...